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法佑:硅谷华裔工程师被控合谋窃取半导体技术 在华开竞争公司

最新法律案例及资讯 » 2017年12月15日

 法佑网案例分析专员独家报道

 美国当局于12月初指控四人合谋窃取硅谷一家半导体公司的商业机密,涉案被告包括两名华裔工程师。

 这四名被告均曾在涉案的公司任职,分别是52岁的陈亮(音,Liang Chen),其职位是副总裁和替代能源产品部门经理,以及54岁的工程部门主任Donald Olgado,57岁的半导体LED部门经理徐维勇(音,Wei-Yung Hsu)和60岁的能源和环境系统部门主任Robert Ewald。

检方指控,Applied Materials公司耗费多年时间,斥资数百万美元研发用于照明和电子设备(例如平板电视和手机)的半导体晶片大批量制造技术,过程由电脑自动操控,工艺非常复杂,该公司将这一技术视为重要商业机密。而被告合谋从公司的内部数据库中非法下载了上述机密信息,包括超过1.6万份图表,被告还在邮件来往中提到他们打算利用这一技术成立新公司与原东家竞争,该新公司将在中国和美国运营。

 四被告被控共谋窃取商业机密罪,检方申明,所有指控并不代表事实!但如果被定罪,最高刑可达10年以上

 

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